台积电再次取得生产技术重大突破，开发世界首个EUV掩膜清洗技术

据Digitimes报道，台积电公司开发了世界上第一个环保的“极紫外线（EUV）掩膜干洗技术”，将取代传统的清洗工艺。

通过落点分析和污染源消除，每1万片晶圆的落点计数由数百粒子减少到单位数粒子，减少率达到99%。台积电表示，自使用这项技术以来，工厂节水量和化学用量分别减少了735吨和36吨。

紫外光掩膜可分为两种类型，一种是有膜的，另一种是没有膜的。

为了提高透光率，台积电选用了不带薄膜的EUV掩模，减少曝光过程中的能量损失。为了解决这个问题，台积电从2018年开始开发落点分析技术。

总的来说，采用这种干式清洗技术可以快速去除掉落的颗粒，而且通过亚纳米分析可以精确定位掉落的来源，从而排除污染物。在2020年，台积电已经实现了99%以上的颗粒物减量。

EUV是目前将芯片制程从10nm继续沿摩尔定律继续缩小的关键技术。而台积电自2018年引入 EUV 掩膜以来，EUV 掩膜的使用周期已经增加了80% ，先进 EUV 掩膜的使用寿命也有所延长，众多改善效果累计为台积电节省了大约6800万美元。

2019年，台积电开发了自动化的其极紫外线掩膜干洗技术，并在2020年1月将自动化生产系统引入所有12英寸晶圆制造厂。

最后再强调一下，台积电是全球唯一一个能够让EUV技术及周边技术发挥最大效用的半导体制造企业。