本文来自微信公众号： 心智观察所 ，作者：心智观察所
当我们回看尼康（Nikon）过去三年的财务曲线，很难不为这家创立于1917年的日本光学巨头感到惋惜。2025财年预估巨亏850亿日元，半年仅出货9台成熟制程光刻机，运营58年的横滨工厂被迫关闭——这些数字拼凑出的，是一幅半导体设备王者跌落神坛的残酷图景。
与此同时，在太平洋的另一端，中国半导体产业正以前所未有的速度推进国产替代。一边是急需技术输血的庞大市场，一边是手握百年光学积淀却深陷泥潭的老牌企业——“中方能否收购尼康的光刻机业务”这个问题，虽然在现实政治中几乎是一个禁忌话题，但从纯粹的产业逻辑和战略推演角度，它却值得被严肃地讨论一次。
尼康光刻机业务：一份触目惊心的“体检报告”
要评估收购的价值，首先需要理解标的资产的真实状况。尼康的精密设备事业部——也就是包含光刻机业务的核心部门——正在经历系统性的萎缩。
财务层面，2025财年尼康全公司营收约7152亿日元，同比微降0.3%，但营业利润暴跌93.9%至仅24亿日元。精密设备部门中，半导体光刻机分部的收入和利润双双下滑，原因是新机出货量大幅减少，同时还计入了固定资产减值和库存减记等一次性损失。到2026财年上半年（截至2025年9月），情况进一步恶化：ArF光刻系统出货量继续下降，该部门仅靠将晶圆键合技术研发业务转让所获得的21亿日元一次性收益，才勉强维持了账面上的利润增长。
尼康整体市值已萎缩至约40亿美元左右——这个数字意味着什么？作为对比，ASML的市值在2500亿美元量级。尼康全公司的市值，不到ASML的2%。如果单独剥离光刻机业务来估值，考虑到该部门持续亏损且缺乏先进制程产品线，其资产价值可能仅在数亿到十几亿美元之间。从纯财务角度看，这是一个便宜的标的。
技术层面，尼康的困境更为深刻。该公司目前能提供的产品主要集中在成熟制程的ArF（氟化氩）干式和浸润式光刻机。在先进制程领域——也就是7纳米及以下的EUV光刻技术——尼康已经彻底出局。尽管尼康曾投入超过1000亿日元研发EUV技术，但到2018年仍只有无法商用的原型机，最终被迫承认失败。目前全球EUV光刻机市场被ASML百分之百垄断，尼康在这个决定半导体技术制高点的赛道上已毫无存在感。
值得注意的是，尼康并未完全放弃努力。公司正在与一家大型半导体制造商合作开发新一代ArF浸润式光刻系统，计划2028年交付原型机。这套系统被设计为与其他厂商的光刻系统兼容，试图在成熟到中端制程市场重新争夺一席之地。但一个残酷的事实是，这种追赶者的研发节奏，远远无法匹配行业技术迭代的速度。
市场层面，尼康的客户基础已极度脆弱。过去，尼康与英特尔形成了深度绑定关系，英特尔一度是尼康最大的光刻机客户。但2024年英特尔因巨额亏损大幅削减资本支出，尼康的订单随之断崖式下跌。更致命的是，在美国对华出口管制的压力下，尼康主动放弃了曾占其光刻机销售额四成以上的中国大陆市场。这意味着尼康同时失去了最大的存量客户和最大的增量市场。
对比之下，ASML在2025年售出327台设备，其中48台为高端EUV光刻机。尼康的半年9台成熟制程设备出货量，在行业格局中已近乎可以忽略不计。
中方为什么“需要”尼康的光刻技术？
尽管尼康在先进制程上已经落后，但这并不意味着它的技术积累毫无价值——尤其是对于中国半导体产业而言。
第一，成熟制程光刻机的战略意义被严重低估。全球芯片需求中，28纳米及以上成熟制程的芯片仍占据总量的七成以上。汽车电子、工业控制、物联网、消费电子等领域大量依赖成熟制程芯片。中国作为全球最大的芯片消费市场，对成熟制程光刻机有巨大且持续的需求。目前中国大陆某光刻机制造商虽然已宣布可交付28纳米节点的设备，但在产能规模、设备稳定性和良率控制方面，与尼康成熟的ArF系列产品仍有显著差距。
尼康的光学技术底蕴具有不可替代性。光刻机的核心在于光学系统。尼康拥有超过一个世纪的精密光学设计和制造经验，其镜头研磨、光学镀膜、对准系统等核心能力，是数十年工程经验和工艺诀窍的结晶。这些隐性知识很难通过逆向工程或论文研读来复制，但可以通过收购和整合来继承。如果中国企业能够获得尼康的光学设计团队和工艺文档，将显著缩短国产光刻机在光学系统上的追赶时间。
尼康的专利组合仍具商业价值。虽然尼康在EUV领域已经落后，但其在DUV（深紫外光）光刻领域积累了大量有效专利，涵盖光源系统、投影物镜、晶圆台、对准与套刻技术等多个子系统。这些专利既是潜在收购者的技术护城河，也能在与ASML等竞争对手的交叉授权谈判中提供筹码。
尼康的光刻机供应链涉及日本众多精密零部件供应商，包括光源、光学玻璃、精密运动平台等。通过收购尼康的光刻机业务，中方企业有机会建立与日本精密制造供应链的合作通道，这对于提升国产半导体设备的整体水平具有重要的拉动作用。
光刻机被称为人类工业皇冠上的明珠，其复杂程度使得从业人才极其稀缺。尼康的光刻机团队虽然在缩编，但其中仍有大量经验丰富的系统工程师、光学设计师和工艺专家。在尼康持续裁员和业务收缩的大背景下，人才流失已经在发生。如果中方能够通过收购或合作的方式留住这些人才，其价值将远超任何硬件资产。
收购面临的多重壁垒
然而，从产业逻辑上的合理性到现实操作中的可行性，中间隔着一道几乎无法逾越的鸿沟。
日本的外商投资审查制度正在急剧收紧。日本的《外汇及外贸法》（FEFTA）近年来经历了密集修订。2025年5月生效的修正案引入了两个重大变化：一是缩小了对受外国政府实质性影响或有效控制的投资者的审查豁免范围；二是扩大了被列为“指定核心业务实体”的企业范围——半导体制造设备赫然在列。这意味着，任何中国实体试图收购日本半导体设备企业的股权，都将面临强制性的事前审查，而审查结果大概率是否决。
日本政府调查显示，超过85%的日本政策制定者希望经济政策与国家安全保持一致，超过80%支持更严格的外商投资审查，尤其是在国防、先进技术和关键基础设施领域。半导体制造设备，毫无疑问属于审查的重灾区。
美国的长臂管辖构成第二道防线。即便日本政府在理论上放行，美国也有足够的法律工具来阻止这笔交易。CFIUS（美国外国投资委员会）已多次展示其在半导体领域的强硬立场——迄今为止，美国总统动用CFIUS权力否决的交易中，有近一半涉及半导体行业。更令人关注的是，CFIUS甚至愿意对与美国本土关联极为有限的交易行使管辖权：2021年，一家在韩国运营、仅在纽约证券交易所挂牌上市的半导体公司被中国资本收购的交易，就被CFIUS叫停。
尼康的光刻机业务使用了大量美国来源的技术和零部件，其产品也受美国出口管制法规的约束。可以合理推断，任何涉及中方收购尼康光刻机业务的交易，都会自动触发美国的审查机制，而获批的概率接近于零。
2025年美国进一步强化了出口管制，将限制范围扩展至外国关联企业。同年提出的《MATCH法案》更是企图建立全球性的半导体设备出口管制联盟，如果协调失败，美国将把限制措施域外适用于任何含有美国技术的工具。在这种法律环境下，中方收购日本光刻机资产的空间被进一步压缩到几乎为零。
此外，日本政府正在以“经济安全保障”为旗号，将半导体产业提升到国家战略的高度。截至目前，日本对半导体产业的补贴总额已达257亿美元，按GDP占比计算为全球最高。日本政府扶持Rapidus项目、邀请台积电建厂、补贴三星设立研发中心——所有这些举措都指向一个清晰的目标：重建日本在全球半导体供应链中的战略地位。在这样的国家意志下，允许光刻机技术流向中国，无异于自毁战略根基。
而且，即便尼康的光刻机业务陷入困境，该公司也不太可能选择向中方出售。尼康仍在尝试自救——开发新一代ArF浸润式系统、为ASML供应EUV相关零部件、推进3D打印等数字制造新业务。此外，2026年初有报道称法国眼镜巨头依视路陆逊梯卡（EssilorLuxottica）披露了对尼康的持股信息，引发了尼康股价大涨，暗示来自西方盟友的战略投资可能成为更可接受的选项。
迂回路径：如果不是直接收购，还有什么可能？
直接收购的大门几乎完全关闭，但产业界的博弈从来不会只有正面强攻一条路。以下几种“迂回路径”在理论上值得探讨。
在出口管制的灰色地带，尼康可以考虑将部分非敏感技术以授权方式转让给中方企业。例如，成熟制程光刻机中的晶圆台运动控制技术、对准算法优化等，如果不涉及最新的管制清单，理论上存在授权合作的空间。但这条路径同样面临巨大的政治风险，且技术解耦后的价值可能大打折扣。
2025上海进博会，尼康展台
在尼康持续裁员和业务收缩的背景下，其光刻机团队中的部分工程师可能选择跳槽。历史上，三星和台积电都曾通过高薪挖角日本半导体人才来提升自身能力。中国企业是否能复制这一策略？从技术角度看是可行的，但从法律和政治角度看，日本2025年修订的FEFTA已经加强了对技术泄露的防范，任何被认为可能导致敏感信息流向中国的人才流动，都可能引发监管干预。
还有一条路径，第三方架构。通过设立在新加坡、马来西亚等中立国的实体来间接持有尼康的部分技术资产或参与合资企业。但在当前的地缘政治环境下，美国和日本对“中间人”架构的警觉性极高。CFIUS已经展示了穿透多层控股结构的能力，而日本的FEFTA也针对受外国政府影响的投资者设置了更严格的披露要求。这条路径的隐蔽性和可操作性都在快速下降。
路径四：收购非核心光学资产。如果直接收购光刻机业务不可行，中方企业是否可以收购尼康在光学镜头、工业测量、显微镜等领域的部分业务？这些领域虽然不直接涉及光刻技术，但其光学设计和制造能力具有向光刻机领域迁移的潜力。这条路径在监管层面的阻力可能相对较小，但技术转化的效率和确定性也较低。
佳能的NIL技术：一个被忽视的变量
在讨论中方收购尼康的可能性时，不应忽视另一家日本光学巨头——佳能——所选择的另一条道路。
佳能没有在EUV赛道上与ASML正面竞争，而是押注纳米压印光刻（NIL）技术。这种技术的研发成本仅为EUV的十分之一，原理上更接近“盖章”而非“投影”——通过将预制模板直接压印到晶圆上来转移图案。2026年初，佳能宣布开发出突破性的晶圆平坦化技术，预计2027年实现商用。
NIL技术的存在提出了一个有趣的问题：对于中国半导体产业而言，与其花费巨大的政治和经济成本去收购尼康的传统DUV光刻技术——一个已经被ASML证明是上一代的技术路线——是否不如将资源投入到NIL等新兴技术路线的自主研发上？毕竟，在颠覆性技术面前，弯道超车的可能性虽然渺茫，但至少不会受到现有出口管制框架的全面封锁。
一个更现实的图景
让我们回到现实。中方收购尼康光刻机业务的可能性，在当前的地缘政治格局下无限接近于零。但这个畅想本身，折射出的是半导体产业深层结构性矛盾。
对中国而言，光刻机是国产替代进程中最难啃的硬骨头。光刻机不是一台机器的问题，而是一个由光源、光学系统、精密运动平台、对准系统、抗蚀剂等数万个零部件构成的生态系统问题。在这个漫长的追赶期内，任何能缩短差距的外部技术获取渠道——哪怕只是成熟制程层面的——都具有巨大的战略价值。
对尼康而言，光刻机业务正在从利润中心变成资金黑洞。但日本社会的企业文化和政治环境决定了，尼康不太可能主动出售这一承载着民族自豪感的业务部门，尤其不会出售给中方。更可能的路径是：继续在成熟制程市场苦撑，为ASML供应EUV零部件以维持技术关联度，同时寄望于与合作伙伴共同开发的新一代ArF系统能在2028年之后打开局面。
对日本政府而言，尼康的光刻机业务虽然在商业上已接近失败，但其技术能力仍属于国家安全资产。日本更可能通过补贴、税收优惠或产业整合的方式来托底尼康，而不是放任其核心技术落入竞争对手手中。不排除在极端情况下，日本政府推动尼康的光刻机业务与佳能或其他国内企业进行整合的可能性。
对ASML而言，尼康的衰落既是利好也是隐忧。利好在于竞争对手的退出进一步巩固了垄断地位；隐忧在于，一个完全没有竞争的市场可能招致反垄断审查，同时也失去了推动自身创新的外部压力。ASML已经开始布局先进封装设备市场，试图包办芯片制造的前后段流程，这种全系统通吃的野心，某种程度上也是尼康衰落后竞争格局失衡的产物。
结语：一场不会发生的收购，和一个必须正视的命题
尼康光刻机业务被中方收购的概率，在可预见的未来几乎为零。日本日益收紧的外资审查制度、美国无处不在的长臂管辖、半导体技术的高度政治化，以及日本国内的民族情感——每一道壁垒都足以独立否决这笔交易，更不用说它们叠加在一起形成的铜墙铁壁。
但这个“不可能”的背后，隐藏着一个中国半导体产业必须正视的命题：在全球技术协作网络对中国日益封闭的趋势下，光刻机的自主化没有捷径可走。收购尼康是一个诱人的幻想，但真正的出路，恐怕只有两条——要么在现有的DUV技术路线上投入比尼康当年更多的资源和更长的耐心，一步步攻克从光源到镜头到整机集成的全链条难题；要么在NIL、电子束直写等下一代光刻技术上寻找弯道超车的可能性，赌一个尚未被垄断巨头完全锁死的技术方向。
尼康的故事给所有追赶者敲响了警钟：在这个由资本、技术和地缘政治共同驱动的竞技场上，闭门造车是死路一条，但试图购买别人的车也可能此路不通。真正的赢家，永远是那些既有技术自信又懂得在全球化游戏中找到自己位置的玩家。ASML用开放合作击败了坚持垂直整合的尼康；那么，谁能用什么样的策略来挑战已经称王的ASML？
这个问题的答案，将定义未来十年全球半导体产业的格局。